Descrizione
- Spin coater per la deposizione di film sottili
- Sputter per la deposizione di metalli nobili e per trattamento al plasma
- Cappa chimica
- Bagno ad ultrasuoni
- Hot plate e agitatore magnetico
- Microscopio ottico in riflessione darkfield/brightfield/differential image contrast
- Microscopio AFM (contact and non contact mode)
- Camera climatica per effettuare misure da -50 °C a 200 °C
- Impulsatore (impulsi fino a 5 ns)
- Oscilloscopi digitali con banda fino a 500MHz
- Alimentatori
- Pompe turbomolecolari
- LCR meter
- Spettrofotometro (200nm-1micron)
- Semiconductor parameter analyzer
- Sistema basato su sorgenti LED impulsate per la caratterizzazione di fotorivelatori
